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真空电镀技术

  我们看到激光唱片以及一些电路板的表面会有一层非常漂亮的镀层,那么这些镀层是不是和普通的金属表面的镀层的电镀工艺一样呢?显然如果唱片能够浸到水溶液中去镀我们用到的唱片就不会是这个样子的了。其实唱片的电镀用到的是真空电镀工艺,该工艺是区别于水电镀工艺的。真空电镀工艺包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀等物理气相沉积以及化学气相沉积等。其中蒸发电镀是指在真空中把制作薄膜的材料加热蒸发,使其淀积在电镀对象的表面上。包括电阻式蒸发、电子束式蒸发等;溅射镀所采用的原理是当等离子体中的高能粒子搭载固体表面时,会与固体表面的原子或者分子发生能量交换,从而使得这些分子或原子从固体中飞溅出来。离子电镀兼具了蒸发电镀和溅射电镀的特点,其借助于惰性气体辉光放电,使镀料气化并且离子化,经过电磁场加速后以较高的能量轰击基体表面,外加反应气体形成相应的镀层,离子镀是三者之中应用最广的。这三种都属于物理气相沉积电镀此外化学气相沉积电镀是指用等离子体中化学反应的方法在基片上沉积薄膜的镀膜工艺。

      总的来说真空镀膜或者真空电镀工艺就是通过在真空中把金属、合金或者化合物进行蒸发、溅射或者通过化学反应,使其沉积在电镀对象即基体上的一种电镀工艺。通过这种镀膜会使得基体拥有许多新的物理性能和化学性能这一点在水电镀上就可以得到很好的体现。真空镀膜较之电化学电镀和化学电镀拥有镀膜厚度易控制、镀层均匀性好,附着能力强、环境污染小等等优点。真空电镀工艺可以运用在平板光学和平板显示、数据存储、半导体制造、建筑玻璃、包装工业、装饰镀和工具镀、太阳能电池等场合和领域。

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